Spiegelblank für Euv Lithographie ohne Ausdehnung unter Euv-Bestrahlung

EP3052448 Art B1 5. Januar 2022

Anmelder: Heraeus Quarzglas GmbH & Co. KG 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP3052448
Aktenzeichen: EP14771818
Anmeldetag: 10. September 2014
Veröffentlichung: 5. Januar 2022
Erteilung: 5. Januar 2022
Rechtsraum: EP
IPC: C03C3/06G03F7/20G02B5/08C03B19/14G02B7/00C03B32/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Heraeus Quarzglas GmbH & Co. KG
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Heraeus Quarzglas

Deutscher Hersteller von Quarzglas, das für optische Komponenten, Halbleiterfertigung, Beleuchtung und industrielle Anwendungen wie Lichtwellenleiter und Hochtemperaturprozesse eingesetzt wird.

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Fachgebiete

Anorganische Chemie & Werkstoffe Optik & Fototechnik

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