Hochempfindlicher Mehrschichtiger Resistfilm und Verfahren zur Verbesserung der Strahlungsempfindlichkeit des Resistfilms
EP3054351
Art B1
30. Januar 2019
Anmelder: National Institute for Materials Science 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3054351
- Aktenzeichen
- EP14847270
- Anmeldetag
- 25. September 2014
- Veröffentlichung
- 30. Januar 2019
- Erteilung
- 30. Januar 2019
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/09G03F7/11H01L21/027
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- National Institute for Materials Science
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
National Institute for Materials Science
Japanisches staatliches Forschungsinstitut mit Sitz in Tsukuba, das auf Materialwissenschaft und Werkstoffforschung spezialisiert ist.
828 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
Calamita, Roberto
London, Großbritannien
317
Patente gesamt
25
Fachgebiete
5
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
Dehns
Dehns · London