Zusammensetzung zur Bildung einer P-Leitenden Diffusionsschicht, Verfahren zur Bildung einer P-Leitenden Diffusionsschicht und Verfahren zur Herstellung einer Photovoltaischen Zelle
EP3062336
Art A1
31. August 2016
Anmelder: Hitachi Chemical Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3062336
- Aktenzeichen
- EP16164209
- Anmeldetag
- 25. Januar 2011
- Veröffentlichung
- 31. August 2016
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/22H01L21/225H01L21/223H01L31/18H01L31/068
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Hitachi Chemical Co., Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Hitachi Chemical
Ehemaliges japanisches Chemieunternehmen, das Materialien für Halbleiter, Batterien und Verbundwerkstoffe herstellte. Ging nach mehreren Umfirmierungen im Konzern Resonac auf.
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Fachgebiete
Vertreten von
-
Hoffmann Eitle
Hoffmann Eitle · München