Silberlegierungsfilm und Sputtertarget zur Bildung des Silberlegierungsfilms
EP3064603
Art B1
28. November 2018
Anmelder: Mitsubishi Materials Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3064603
- Aktenzeichen
- EP15776508
- Anmeldetag
- 18. März 2015
- Veröffentlichung
- 28. November 2018
- Erteilung
- 28. November 2018
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C22C5/06C23C14/16C23C14/34H01B1/02H01B5/02
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Mitsubishi Materials Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Mitsubishi Materials
Japanisches Unternehmen der Mitsubishi-Gruppe mit Sitz in Tokio, tätig in der Verarbeitung von Metallen und Werkstoffen, unter anderem Kupfer, Zement, Hartmetallwerkzeuge und elektronische Materialien.
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Vertreten von
-
Hoffmann Eitle
Hoffmann Eitle · München