Verfahren zum Ätzen einer zu Ätzenden Schicht
EP3073518
Art B1
7. März 2018
Anmelder: Tokyo Electron Limited 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3073518
- Aktenzeichen
- EP14863512
- Anmeldetag
- 19. September 2014
- Veröffentlichung
- 7. März 2018
- Erteilung
- 7. März 2018
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L43/08H01L43/12
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Tokyo Electron Limited
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Tokyo Electron
Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.
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Fachgebiete
Vertreten von
Enomoto, Kéi
London, Großbritannien
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