Euv-Membranrahmen und Euv-Membran damit
EP3079014
Art A3
14. Juni 2017
Anmelder: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3079014
- Aktenzeichen
- EP16162738
- Anmeldetag
- 30. März 2016
- Veröffentlichung
- 14. Juni 2017
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F1/64
Abstract
An EUV pellicle is proposed in which the pellicle frame is made of a material having a linear expansion coefficient of 10 x 10<-6>(1/K) or smaller, and as such this pellicle is recommendable for use in EUV exposure technology wherein temperature is raised and lowered repeatedly and hence the expansion and contraction of the pellicle frame would harm the pellicle membrane and the pellicle flatness.
Anmelder
- Firma
- Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Shin-Etsu Chemical
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.
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