Chemisch Erweiterte Negative Resistzusammensetzung mittels eines Neuartigen Oniumsalzes und Resiststrukturbildungsverfahren

EP3081987 Art B1 6. Juni 2018

Anmelder: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP3081987
Aktenzeichen: EP16163471
Anmeldetag: 1. April 2016
Veröffentlichung: 6. Juni 2018
Erteilung: 6. Juni 2018
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/004G03F7/038G03F7/039G03F7/38

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Shin-Etsu Chemical

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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