Rohling für Halbton-Phasenschiebermaske, Halbton-Phasenschiebermaske sowie Musterbelichtungsverfahren

EP3086180 Art B1 29. April 2020

Anmelder: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP3086180
Aktenzeichen: EP16161074
Anmeldetag: 18. März 2016
Veröffentlichung: 29. April 2020
Erteilung: 29. April 2020
Rechtsraum: EP
IPC: G03F1/28G03F1/32

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Shin-Etsu Chemical

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.

4.655 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Optik & Fototechnik

Vertreten von