Antireflektionsstruktur und Verfahren zum Entwurf davon

EP3093692 Art B1 16. April 2025

Anmelder: Dexerials Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP3093692
Aktenzeichen
EP15735604
Anmeldetag
5. Januar 2015
Veröffentlichung
16. April 2025
Erteilung
16. April 2025
Rechtsraum
EP
IPC
G02B1/11B29C59/02
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
Dexerials Corporation
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Dexerials

Japanischer Hersteller elektronischer Komponenten und optischer Materialien mit Sitz in Tokio, 2012 als Ausgründung aus Sony Chemical hervorgegangen.

964 Patente in unserer Datenbank

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen