Selektives, Elektrochemisches Ätzen eines Halbleiters
EP3105777
Art A1
21. Dezember 2016
Anmelder: Rensselaer Polytechnic Institute 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3105777
- Aktenzeichen
- EP15745915
- Anmeldetag
- 10. Februar 2015
- Veröffentlichung
- 21. Dezember 2016
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/3063
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Rensselaer Polytechnic Institute
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Rensselaer Polytechnic Institute
Das Rensselaer Polytechnic Institute ist eine private technische Universität mit Sitz in Troy, New York, und eine der ältesten technischen Hochschulen der USA. Das Patentportfolio streut breit über Medizintechnik, Halbleiter und Mess- und Prüftechnik, mit weiteren Anmeldungen in Pharma, Kunststofftechnik und Software. Anmeldungen decken den Zeitraum 2000 bis 2025 ab.
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