Gasgekühlte Substratträger für Stabilisierte Hochtemperaturabscheidung

EP3105778 Art B1 3. Juli 2019

Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP3105778
Aktenzeichen: EP15748638
Anmeldetag: 13. Januar 2015
Veröffentlichung: 3. Juli 2019
Erteilung: 3. Juli 2019
Rechtsraum: EP
IPC: C23C14/50C23C14/54C23C16/458H01J37/32H01L21/67

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Applied Materials, Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

6.825 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von