Verfahren zur Herstellung eines Sputtertargets mit einer Ni-P-Legierung oder einer Ni-Pt-P-Legierung
EP3106540
Art B1
25. April 2018
Anmelder: JX Nippon Mining & Metals Corp. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3106540
- Aktenzeichen
- EP15769671
- Anmeldetag
- 12. März 2015
- Veröffentlichung
- 25. April 2018
- Erteilung
- 25. April 2018
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C23C14/34B22F1/00B22F3/14B22F3/15B22F9/08C22C19/03G11B5/851H01J37/34C22C1/04
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- JX Nippon Mining & Metals Corp.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
JX Nippon Mining & Metals
JX Nippon Mining & Metals Corporation ist ein japanisches Unternehmen der Nichteisenmetallindustrie, das Kupfer, Halbleitermaterialien und Metallverarbeitung herstellt, Teil der ENEOS-Gruppe.
1.069 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
Cornford, James Robert
München, Deutschland
174
Patente gesamt
29
Fachgebiete
12
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Schwerpunkte