Chemisch Verstärktes Resistmaterial vom Photosensibilisierungstyp und Verfahren zur Strukturherstellung damit
EP3109703
Art B1
30. Dezember 2020
Anmelder: Tokyo Electron Limited, Osaka University 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3109703
- Aktenzeichen
- EP15752170
- Anmeldetag
- 17. Februar 2015
- Veröffentlichung
- 30. Dezember 2020
- Erteilung
- 30. Dezember 2020
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/38G03F7/004G03F7/038G03F7/039G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Tokyo Electron Limited
Osaka University - Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Tokyo Electron
Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.
6.254 Patente in unserer Datenbank
🇯🇵
Osaka University
Staatliche Universität in Osaka, Japan, eine der führenden Forschungsuniversitäten des Landes mit Schwerpunkten in Naturwissenschaften, Medizin und Ingenieurwesen.
2.434 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Jacob, Reuben Ellis
London, Großbritannien
1.275
Patente gesamt
34
Fachgebiete
35
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
Enomoto, Kéi
NoneLondon