Chemisch Verstärktes Resistmaterial vom Photosensibilisierungstyp und Verfahren zur Strukturherstellung damit

EP3109703 Art B1 30. Dezember 2020

Anmelder: Tokyo Electron Limited, Osaka University 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP3109703
Aktenzeichen
EP15752170
Anmeldetag
17. Februar 2015
Veröffentlichung
30. Dezember 2020
Erteilung
30. Dezember 2020
Rechtsraum
EP
IPC
G03F7/38G03F7/004G03F7/038G03F7/039G03F7/20
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen
Tokyo Electron Limited
Osaka University
Land
🇯🇵 Japan

Fachgebiete

Optik & Fototechnik
Vertreten von
Jacob, Reuben Ellis London, Großbritannien
1.272
Patente gesamt
34
Fachgebiete
35
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Medizintechnik & Gesundheit Halbleiter & Elektrische Bauelemente Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Pharma & Biotechnologie Landwirtschaft & Nahrungsmitteltechnik Anorganische Chemie & Werkstoffe
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