Spiegel für Vorrichtung zur Belichtung von Mikrolithographischer Projektion
EP3117257
Art A1
18. Januar 2017
Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH 🇩🇪
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3117257
- Aktenzeichen
- EP15709856
- Anmeldetag
- 19. Februar 2015
- Veröffentlichung
- 18. Januar 2017
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G02B17/06G03F7/20G21K1/06
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Carl Zeiss SMT GmbH
- Land
- 🇩🇪 Deutschland
🇩🇪
Carl Zeiss SMT
Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.
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Vertreten von
Frank, Hartmut
Mülheim a. d. Ruhr, Deutschland
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