Substrathandhabungssystem und Lithografische Vorrichtung
EP3117270
Art B1
18. Juli 2018
Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3117270
- Aktenzeichen
- EP15707146
- Anmeldetag
- 2. März 2015
- Veröffentlichung
- 18. Juli 2018
- Erteilung
- 18. Juli 2018
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20G03F9/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML Netherlands B.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
3.336 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Ras, Michael Adrianus Josephus
Veldhoven, Niederlande
15
Patente gesamt
4
Fachgebiete
1
Anmelder-Länder
Schwerpunkte