Verbindung, Harz, Basisschichtfilmbildendes Material für Lithografie, Basisschichtfilm für Lithografie, Motivformungsverfahren und Verfahren zur Verfeinerung der Verbindung oder des Harzes
EP3118183
Art B1
21. Juli 2021
Anmelder: Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3118183
- Aktenzeichen
- EP15760886
- Anmeldetag
- 13. März 2015
- Veröffentlichung
- 21. Juli 2021
- Erteilung
- 21. Juli 2021
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C07C39/15C08G8/04G03F7/11C09D161/06G03F7/16G03F7/20G03F7/32
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Mitsubishi Gas Chemical Company
Japanisches Chemieunternehmen der Mitsubishi-Gruppe mit Fokus auf technische Kunststoffe, Methanol und Spezialchemikalien. Der Konzern beliefert unter anderem die Elektronik- und Verpackungsindustrie.
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