Verbindung, Harz, Basisschichtfilmbildendes Material für Lithografie, Basisschichtfilm für Lithografie, Motivformungsverfahren und Verfahren zur Verfeinerung der Verbindung oder des Harzes

EP3118183 Art B1 21. Juli 2021

Anmelder: Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP3118183
Aktenzeichen
EP15760886
Anmeldetag
13. März 2015
Veröffentlichung
21. Juli 2021
Erteilung
21. Juli 2021
Rechtsraum
EP
IPC
C07C39/15C08G8/04G03F7/11C09D161/06G03F7/16G03F7/20G03F7/32
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc.
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Mitsubishi Gas Chemical Company

Japanisches Chemieunternehmen der Mitsubishi-Gruppe mit Fokus auf technische Kunststoffe, Methanol und Spezialchemikalien. Der Konzern beliefert unter anderem die Elektronik- und Verpackungsindustrie.

2.580 Patente in unserer Datenbank

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen