Sputtering-Target für Hochreines Kupfer oder eine Legierung mit Hochreinem Kupfer
EP3128039
Art B1
1. Mai 2019
Anmelder: JX Nippon Mining & Metals Corp. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3128039
- Aktenzeichen
- EP16190070
- Anmeldetag
- 24. September 2009
- Veröffentlichung
- 1. Mai 2019
- Erteilung
- 1. Mai 2019
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C23C14/34H01L21/28H01L21/285C22B9/20C23C14/56C22C9/00C23C14/18
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- JX Nippon Mining & Metals Corp.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
JX Nippon Mining & Metals
JX Nippon Mining & Metals Corporation ist ein japanisches Unternehmen der Nichteisenmetallindustrie, das Kupfer, Halbleitermaterialien und Metallverarbeitung herstellt, Teil der ENEOS-Gruppe.
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Vertreten von
Bond, Christopher William
München, Deutschland
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