Chemisch Verstärkte Positive Resistzusammensetzung und Musterbildungsverfahren

EP3128368 Art B1 24. Januar 2018

Anmelder: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP3128368
Aktenzeichen: EP16181363
Anmeldetag: 27. Juli 2016
Veröffentlichung: 24. Januar 2018
Erteilung: 24. Januar 2018
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/004G03F7/039G03F7/085G03F7/40

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Shin-Etsu Chemical

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.

4.655 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Optik & Fototechnik

Vertreten von