Verfahren zum Ausbilden einer Schicht mit Hoher Lichttransmission Und/oder Niedriger Lichtreflexion

EP3133184 Art B1 25. November 2020

Anmelder: Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP3133184
Aktenzeichen: EP16184261
Anmeldetag: 16. August 2016
Veröffentlichung: 25. November 2020
Erteilung: 25. November 2020
Rechtsraum: EP
IPC: C23C14/35C03C17/245C03C17/34C23C14/08C23C14/10C23C14/58C03C17/00

Abstract

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Ausbilden einer Schicht mit hoher Lichttransmission und/oder niedriger Lichtreflexion, wobei die Schicht auf einem Substrat (2) abgeschieden wird. Dabei wird die Schicht als Mischschicht eines Materials A und eines Materials B abgeschieden, wobei die Schicht im Schichtdickenverlauf mit einem Gradienten derart ausgebildet wird, dass das Material B an der Substratoberfläche den geringsten Anteil und an der Schichtoberfläche den höchsten Anteil am Schichtmaterial aufweist und dass nach dem Abscheiden der Schicht das Material B zumindest teilweise aus der Schicht entfernt wird.

Anmelder

Firma: Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V.
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Fraunhofer-Gesellschaft

Deutsche gemeinnützige Forschungsorganisation mit Sitz in München. Betreibt anwendungsorientierte Forschung in Technik und Naturwissenschaften über zahlreiche Institute für Industrie und Gesellschaft.

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Fachgebiete

Anorganische Chemie & Werkstoffe Metallurgie & Oberflächentechnik

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