Chemisch Verstärktes Resistmaterial und Strukturbildungsverfahren

EP3133444 Art A1 22. Februar 2017

Anmelder: OSAKA UNIVERSITY, TOKYO ELECTRON LIMITED, JSR Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP3133444
Aktenzeichen: EP16184898
Anmeldetag: 19. August 2016
Veröffentlichung: 22. Februar 2017
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/004G03F7/20C07D317/22C07D317/72C07C43/164C07D335/16C07C45/51C07C45/59C07D493/10

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: OSAKA UNIVERSITY
TOKYO ELECTRON LIMITED
JSR Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Osaka University

Staatliche Universität in Osaka, Japan, eine der führenden Forschungsuniversitäten des Landes mit Schwerpunkten in Naturwissenschaften, Medizin und Ingenieurwesen.

1.047 Patente in unserer Datenbank

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

2.414 Patente in unserer Datenbank

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

1.781 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Optik & Fototechnik Organische Chemie

Vertreten von