Halbton-Phasenschiebungsfotomasken-Rohling, Herstellungsverfahren und Entsprechende Halbton-Phasenschiebungsfotomaske
Anmelder: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3136171
- Aktenzeichen
- EP16183689
- Anmeldetag
- 11. August 2016
- Veröffentlichung
- 25. Oktober 2017
- Erteilung
- 25. Oktober 2017
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F1/26G03F1/32C23C14/06G03F7/20G03F1/80
Abstract
A halftone phase shift photomask blank is provided comprising a transparent substrate and a halftone phase shift film thereon having a phase shift of 150-200° and a transmittance of 9-40%. The halftone phase shift film consists of a transition metal, Si, O and N, has an average transition metal content of at least 3 at%, and is composed of a plurality of layers including a stress relaxation layer having an oxygen content of at least 3 at% and a phase shift adjusting layer having a higher oxygen content of at least 5 at%.
Anmelder
- Firma
- Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.
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