Lithografische Vorrichtung und Verfahren zur Herstellung der Vorrichtung

EP3137944 Art B1 4. März 2020

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP3137944
Aktenzeichen: EP15710186
Anmeldetag: 17. März 2015
Veröffentlichung: 4. März 2020
Erteilung: 4. März 2020
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

3.336 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Optik & Fototechnik

Vertreten von