Tragetisch für eine Lithografische Vorrichtung, Lithografische Vorrichtung und Herstellungsverfahren für eine Vorrichtung

EP3137945 Art B1 6. Mai 2020

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP3137945
Aktenzeichen: EP15712353
Anmeldetag: 25. März 2015
Veröffentlichung: 6. Mai 2020
Erteilung: 6. Mai 2020
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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