Fotomaskenrohling
Anmelder: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3139212
- Aktenzeichen
- EP16184794
- Anmeldetag
- 18. August 2016
- Veröffentlichung
- 31. Januar 2018
- Erteilung
- 31. Januar 2018
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F1/20G03F1/26G03F1/32G03F1/54G03F1/80
Abstract
A photomask blank comprising a transparent substrate (1) and a chromium-containing film (2) is provided. The chromium-containing film is formed of a chromium compound containing Cr, N, and optionally O, has a total Cr+N+O content ¥ 93 at%, and meets the formula: 3cry ¤ 20 + 3N. A chromium compound layer meeting a first composition having a N/Cr atomic ratio ¥ 0.95, a Cr content ¥ 40 at%, a Cr+N content ¥ 80 at%, and an O contents ¤ 10 at% accounts for 10-70% of the overall thickness of the chromium-containing film.
Anmelder
- Firma
- Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.
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