Positionskorrekturprobe, Massenspektrometrievorrichtung und Massenspektrometrieverfahren

EP3139400 Art B1 28. Februar 2018

Anmelder: Kabushiki Kaisha Toshiba 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP3139400
Aktenzeichen: EP16185874
Anmeldetag: 26. August 2016
Veröffentlichung: 28. Februar 2018
Erteilung: 28. Februar 2018
Rechtsraum: EP
IPC: H01J49/00H01J49/14H01J49/16

Abstract

According to an embodiment, a position correction sample (20) is used to correct an irradiation position of an ion beam with respect to a sample platform where an analysis object is disposed in mass spectrometry. The position correction sample (20) comprises a stacked body (LB1). The stacked body includes a first layer (201), a second layer (202), and a third layer (203). The first layer includes a first material. The second layer is provided on the first layer. The second layer includes a second material. The third layer is provided on the second layer. The third layer includes a third material.

Anmelder

Firma: Kabushiki Kaisha Toshiba
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Toshiba

Japanischer Konzern, der Elektronik, Halbleiter, Energie- und Infrastrukturtechnik sowie Industrieanlagen entwickelt und herstellt.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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