Verfahren zur Herstellung eines Halbleiterbauelements mit Rippenrelaxation und Zugehörige Strukturen

EP3140858 Art B1 15. März 2023

Anmelder: Soitec, STMicroelectronics, Inc. 🇫🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP3140858
Aktenzeichen
EP15720893
Anmeldetag
28. April 2015
Veröffentlichung
15. März 2023
Erteilung
15. März 2023
Rechtsraum
EP
IPC
H01L21/84
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen
Soitec
STMicroelectronics, Inc.
Land
🇫🇷 Frankreich
🇫🇷 Soitec

Französischer Halbleiterhersteller mit Sitz in Bernin, spezialisiert auf Silicon-on-Insulator (SOI) Substrate. Patente decken Halbleitermaterialien und Waferbondtechnik ab.

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🇨🇭 STMicroelectronics International

Schweizer Gesellschaft des Halbleiterkonzerns STMicroelectronics, die Chips und Sensoren für Automobiltechnik, Industrie und Unterhaltungselektronik entwickelt.

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