Verfahren zur Herstellung eines Halbleiterbauelements mit Rippenrelaxation und Zugehörige Strukturen
EP3140858
Art B1
15. März 2023
Anmelder: Soitec, STMicroelectronics, Inc. 🇫🇷
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3140858
- Aktenzeichen
- EP15720893
- Anmeldetag
- 28. April 2015
- Veröffentlichung
- 15. März 2023
- Erteilung
- 15. März 2023
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/84
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Soitec
STMicroelectronics, Inc. - Land
- 🇫🇷 Frankreich
🇫🇷
Soitec
Französischer Halbleiterhersteller mit Sitz in Bernin, spezialisiert auf Silicon-on-Insulator (SOI) Substrate. Patente decken Halbleitermaterialien und Waferbondtechnik ab.
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🇨🇭
STMicroelectronics International
Schweizer Gesellschaft des Halbleiterkonzerns STMicroelectronics, die Chips und Sensoren für Automobiltechnik, Industrie und Unterhaltungselektronik entwickelt.
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