Sputtertarget und Verfahren zur Herstellung davon
EP3141630
Art B1
9. Mai 2018
Anmelder: MITSUBISHI MATERIALS CORPORATION 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3141630
- Aktenzeichen
- EP16172411
- Anmeldetag
- 15. Februar 2013
- Veröffentlichung
- 9. Mai 2018
- Erteilung
- 9. Mai 2018
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C23C14/34C23C14/06
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- MITSUBISHI MATERIALS CORPORATION
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Mitsubishi Materials
Japanisches Unternehmen der Mitsubishi-Gruppe mit Sitz in Tokio, tätig in der Verarbeitung von Metallen und Werkstoffen, unter anderem Kupfer, Zement, Hartmetallwerkzeuge und elektronische Materialien.
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Fachgebiete
Vertreten von
-
Hoffmann Eitle
Hoffmann Eitle · München