Vorrichtung und Verfahren zur Erhaltung von Immersionsflüssigkeit in der Spalte unter einer Projektionslinse Während des Wafer-Austauschs in einer Immersionslithografiemaschine

EP3141953 Art A3 7. Juni 2017

Anmelder: Nikon Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP3141953
Aktenzeichen: EP16186292
Anmeldetag: 17. März 2004
Veröffentlichung: 7. Juni 2017
Rechtsraum: EP
IPC: G03B27/32G03B27/42G03B27/58G03F7/20G03B27/52

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Nikon Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nikon

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio. Nikon entwickelt optische Geräte und Präzisionstechnik, darunter Kameras, Objektive, Mikroskope sowie Lithografie- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung.

3.320 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Optik & Fototechnik

Vertreten von