Substratvorbehandlung zur Verringerung der Füllzeit in der Nano-Imprint-Lithografie
EP3141956
Art B1
14. Februar 2024
Anmelder: Canon Kabushiki Kaisha 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3141956
- Aktenzeichen
- EP16185680
- Anmeldetag
- 25. August 2016
- Veröffentlichung
- 14. Februar 2024
- Erteilung
- 14. Februar 2024
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Canon Kabushiki Kaisha
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Canon
Japanischer Konzern mit Sitz in Tokio, der Kameras, Objektive, Drucker, Kopiergeräte sowie optische und medizinische Bildgebungstechnik entwickelt und herstellt.
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