Lithografisches Filmbildungsmaterial, Zusammensetzung für Lithografische Filmbildung, Lithografischer Film, Strukturbildungsverfahren und Reinigungsverfahren
EP3141959
Art B1
30. Januar 2019
Anmelder: Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3141959
- Aktenzeichen
- EP15788887
- Anmeldetag
- 8. Mai 2015
- Veröffentlichung
- 30. Januar 2019
- Erteilung
- 30. Januar 2019
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/11G03F7/26H01L21/027C07D303/18
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Mitsubishi Gas Chemical Company
Japanisches Chemieunternehmen der Mitsubishi-Gruppe mit Fokus auf technische Kunststoffe, Methanol und Spezialchemikalien. Der Konzern beliefert unter anderem die Elektronik- und Verpackungsindustrie.
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