Belichtungsvorrichtung und Belichtungsverfahren
Anmelder: ADVANTEST CORPORATION 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3147930
- Aktenzeichen
- EP16181810
- Anmeldetag
- 28. Juli 2016
- Veröffentlichung
- 20. März 2019
- Erteilung
- 20. März 2019
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01J37/317H01J37/04
Abstract
Provided is an exposure apparatus that exposes a pattern on a sample, the exposure apparatus including a plurality of blanking electrodes that are provided corresponding to a plurality of charged particle beams and each switch whether the corresponding particle beam irradiates the sample according to an input voltage; an irradiation control section that outputs switching signals for switching blanking voltages supplied respectively to the blanking electrodes; and a measuring section that, for each blanking electrode, measures a delay amount that is from when the switching signal changes to when the blanking voltage changes.
Anmelder
- Firma
- ADVANTEST CORPORATION
- Land
- 🇯🇵 Japan
Japanisches Unternehmen mit Sitz in Tokio, Hersteller von Testsystemen für Halbleiter und elektronische Bauteile.
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