Augenhintergrundabbildungsvorrichtung

EP3150109 Art B1 5. Juli 2023

Anmelder: Nidek Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP3150109
Aktenzeichen
EP16191601
Anmeldetag
29. September 2016
Veröffentlichung
5. Juli 2023
Erteilung
5. Juli 2023
Rechtsraum
EP
IPC
A61B3/10
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
Nidek Co., Ltd.
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Nidek

Nidek ist ein japanischer Hersteller ophthalmologischer Geräte, etwa für Diagnostik und Laserbehandlung am Auge. Das Patentportfolio konzentriert sich entsprechend auf Medizintechnik und Gesundheit, ergänzt durch Werkzeug-, Fertigungs- und Drucktechnik sowie Optik und Fototechnik. Anmeldungen erstrecken sich von 2000 bis 2025.

640 Patente in unserer Datenbank

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen