Mems-Basiertes Verfahren zur Herstellung eines Sensors
EP3150548
Art B1
19. Dezember 2018
Anmelder: CSMC Technologies Fab2 Co., Ltd., CSMC Technologies Fab1 Co., Ltd. 🇨🇳
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3150548
- Aktenzeichen
- EP15800029
- Anmeldetag
- 5. Mai 2015
- Veröffentlichung
- 19. Dezember 2018
- Erteilung
- 19. Dezember 2018
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- B81C1/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- CSMC Technologies Fab2 Co., Ltd.
CSMC Technologies Fab1 Co., Ltd. - Land
- 🇨🇳 China
🇨🇳
CSMC Technologies Fab2
CSMC Technologies Fab2 Co., Ltd. ist ein chinesischer Halbleiterhersteller mit Sitz in Wuxi, der als Foundry Leistungshalbleiter und analoge Bauelemente fertigt. Das Patentportfolio konzentriert sich fast vollständig auf Halbleiter und elektrische Bauelemente, ergänzt um Elektronik, Optik und Mess- und Prüftechnik. Anmeldungen erfolgen seit 2010 bis in die Gegenwart.
392 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
-
Ipsilon
Ipsilon · Bourg-la-Reine
-
Cabinet Laurent & Charras
Cabinet Laurent & Charras · Dardilly