Vorrichtung und Verfahren zur Plasmabestrahlung einer Flüssigkeit
EP3151640
Art B1
21. Oktober 2020
Anmelder: FUJI Corporation, Fuji Machine Mfg. Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3151640
- Aktenzeichen
- EP14893492
- Anmeldetag
- 30. Mai 2014
- Veröffentlichung
- 21. Oktober 2020
- Erteilung
- 21. Oktober 2020
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- B01J19/08C01B13/11C02F1/46H05H1/24C02F1/30
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- FUJI Corporation
Fuji Machine Mfg. Co., Ltd. - Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Fuji Machine Mfg.
Japanisches Unternehmen mit Sitz in Chiryu, das Bestückungsautomaten und Fertigungssysteme für die Elektronikindustrie herstellt.
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