Lithografische Vorrichtung und Verfahren zur Herstellung einer Lithografischen Vorrichtung
EP3155481
Art B1
24. April 2019
Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3155481
- Aktenzeichen
- EP15721224
- Anmeldetag
- 7. Mai 2015
- Veröffentlichung
- 24. April 2019
- Erteilung
- 24. April 2019
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML Netherlands B.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
3.336 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Dung, Shiang-Lung
Veldhoven, Niederlande
20
Patente gesamt
6
Fachgebiete
1
Anmelder-Länder
Schwerpunkte