Lithographische Vorrichtung, Verfahren zur Übertragung eines Substrats und Vorrichtungsherstellungsverfahren

EP3155482 Art B1 4. Juli 2018

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP3155482
Aktenzeichen
EP15723888
Anmeldetag
12. Mai 2015
Veröffentlichung
4. Juli 2018
Erteilung
4. Juli 2018
Rechtsraum
EP
IPC
G03F7/20
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
ASML Netherlands B.V.
Land
🇳🇱 Niederlande
🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

3.336 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen