Lithografievorrichtung und Belichtungsverfahren
EP3155483
Art A1
19. April 2017
Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3155483
- Aktenzeichen
- EP15722714
- Anmeldetag
- 13. Mai 2015
- Veröffentlichung
- 19. April 2017
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F9/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML Netherlands B.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
3.336 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Ketting, Alfred
Eindhoven, Niederlande
40
Patente gesamt
8
Fachgebiete
2
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
Siem, Max Yoe Shé
NoneAmsterdam