Selektive Diffusionsbarriere zwischen Metallen einer Integrierten Schaltvorrichtung
EP3155655
Art B1
12. Mai 2021
Anmelder: Intel Corporation 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3155655
- Aktenzeichen
- EP14895432
- Anmeldetag
- 16. Juni 2014
- Veröffentlichung
- 12. Mai 2021
- Erteilung
- 12. Mai 2021
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/285H01L21/768H01L23/532
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Intel Corporation
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Intel
US-amerikanischer Halbleiterhersteller mit Sitz in Kalifornien. Entwickelt und produziert Prozessoren, Chipsätze sowie weitere Halbleiterkomponenten für Computer, Server und eingebettete Systeme.
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Boehmert & Boehmert
München, Deutschland
Boehmert & Boehmert geht auf die Zulassung von Dr. Karl Boehmert 1931 in Berlin zurück. Mit Standorten in Deutschland, Alicante, Paris und Shanghai bietet die Kanzlei IP aus einer Hand und legt besonderen Wert auf persönliche Mandantenbetreuung statt Anonymität.
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