Oberflächentemperaturberechnungsverfahren und Verfahren zur Steuerung eines Polykristallinen Siliciumstabs, Verfahren zur Herstellung eines Polykristallinen Siliciumstabs, Polykristalliner Siliciumstab und Polykristalliner Siliciumwafer
EP3159680
Art A1
26. April 2017
Anmelder: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3159680
- Aktenzeichen
- EP15809419
- Anmeldetag
- 17. Juni 2015
- Veröffentlichung
- 26. April 2017
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G01N23/207C01B33/035
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Shin-Etsu Chemical
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.
4.655 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
Smaggasgale, Gillian Helen
London, Großbritannien
1.678
Patente gesamt
34
Fachgebiete
24
Anmelder-Länder
Schwerpunkte