Chemisch-Mechanische Polierzusammensetzung mit Kupferbarriere
EP3161095
Art B8
7. Juli 2021
Anmelder: CMC Materials, Inc., Cabot Microelectronics Corporation 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3161095
- Aktenzeichen
- EP15811236
- Anmeldetag
- 25. Juni 2015
- Veröffentlichung
- 7. Juli 2021
- Erteilung
- 7. Juli 2021
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C09K3/14C09G1/02H01L21/3105H01L21/321
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- CMC Materials, Inc.
Cabot Microelectronics Corporation - Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Cabot Microelectronics
Cabot Microelectronics war ein US-amerikanischer Hersteller von Polierchemikalien für die Halbleiterfertigung und ist heute Teil von Entegris. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Farben, Klebstoffe und Brennstoffe sowie Halbleiterbauelemente, mit Bezug zur Werkzeug- und Fertigungstechnik. Die Anmeldungen bis 2019 betreffen unter anderem CMP-Zusammensetzungen für die Chip-Planarisierung.
290 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
Trueman, Lucy Petra
Birmingham, Großbritannien
598
Patente gesamt
34
Fachgebiete
14
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
Barker Brettell LLP
Barker Brettell LLP · Kongens Lyngby