Monomer, Polymer, Resistzusammensetzung und Musterungsverfahren
EP3168207
Art B1
6. Februar 2019
Anmelder: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3168207
- Aktenzeichen
- EP16196525
- Anmeldetag
- 31. Oktober 2016
- Veröffentlichung
- 6. Februar 2019
- Erteilung
- 6. Februar 2019
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C07C69/653C08F20/24C08F20/26C09D133/16G03F7/004G03F7/038
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Shin-Etsu Chemical
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.
4.655 Patente in unserer Datenbank