Verfahren zum Elektroplattieren von Kupferschichten mit Geringer Interner Spannung auf Dünnfilmsubstraten zur Hemmung von Verzerrung

EP3170923 Art A1 24. Mai 2017

Anmelder: Rohm and Haas Electronic Materials LLC 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP3170923
Aktenzeichen
EP16197795
Anmeldetag
8. November 2016
Veröffentlichung
24. Mai 2017
Rechtsraum
EP
IPC
C25D3/38C25D17/00C25D17/06
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
Rohm and Haas Electronic Materials LLC
Land
🇺🇸 USA
🇺🇸 Rohm and Haas

Ehemaliger US-amerikanischer Spezialchemiekonzern mit Sitz in Philadelphia, unter anderem für Kunststoffe, Beschichtungen und Elektronikchemikalien bekannt. Wurde 2009 von Dow Chemical übernommen.

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Kanzlei
Patent Outsourcing Limited

Sitz im englischen Bakewell in Derbyshire, Kanzlei aus UK Chartered und European Patent Attorneys mit eigener Industrieerfahrung. Spezialisiert auf europäische Patentanmeldung sowie Einspruchs- und Beschwerdeverfahren für US-amerikanische und europäische Firmenkunden.

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