Schichtaufbau umfassend eine Photopolymer- und eine Substratschicht

EP3175297 Art B1 23. Oktober 2019

Anmelder: Covestro Deutschland AG 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP3175297
Aktenzeichen: EP15745464
Anmeldetag: 31. Juli 2015
Veröffentlichung: 23. Oktober 2019
Erteilung: 23. Oktober 2019
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/027G03F7/035

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Covestro Deutschland AG
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Covestro Deutschland

Deutsches Chemieunternehmen mit Sitz in Leverkusen. Covestro entwickelt und produziert Hochleistungskunststoffe wie Polyurethane und Polycarbonate für Automobil-, Bau- und Elektronikindustrie.

2.720 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Optik & Fototechnik

Vertreten von