Vorrichtung und Verfahren zur Erzeugung einer Mikroelektronischen Vorrichtungsisolierung durch Katalytische Oxidbildung
EP3178115
Art A1
14. Juni 2017
Anmelder: Intel Corporation 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3178115
- Aktenzeichen
- EP14899496
- Anmeldetag
- 5. August 2014
- Veröffentlichung
- 14. Juni 2017
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L29/78H01L21/336H01L21/8234H01L21/02
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Intel Corporation
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Intel
US-amerikanischer Halbleiterhersteller mit Sitz in Kalifornien. Entwickelt und produziert Prozessoren, Chipsätze sowie weitere Halbleiterkomponenten für Computer, Server und eingebettete Systeme.
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Boehmert & Boehmert
München, Deutschland
Boehmert & Boehmert geht auf die Zulassung von Dr. Karl Boehmert 1931 in Berlin zurück. Mit Standorten in Deutschland, Alicante, Paris und Shanghai bietet die Kanzlei IP aus einer Hand und legt besonderen Wert auf persönliche Mandantenbetreuung statt Anonymität.
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