Unterschichtfilmbildende Zusammensetzung für Lithografie, Unterschichtfilm für Lithografie und Verfahren zur Strukturformung

EP3179308 Art B1 21. April 2021

Anmelder: Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP3179308
Aktenzeichen
EP15829358
Anmeldetag
31. Juli 2015
Veröffentlichung
21. April 2021
Erteilung
21. April 2021
Rechtsraum
EP
IPC
G03F7/11C07C261/02G03F7/004G03F7/26H01L21/027
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc.
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Mitsubishi Gas Chemical Company

Japanisches Chemieunternehmen der Mitsubishi-Gruppe mit Fokus auf technische Kunststoffe, Methanol und Spezialchemikalien. Der Konzern beliefert unter anderem die Elektronik- und Verpackungsindustrie.

2.580 Patente in unserer Datenbank

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen