Unterschichtfilmbildende Zusammensetzung für Lithografie, Unterschichtfilm für Lithografie und Verfahren zur Strukturformung
EP3179308
Art B1
21. April 2021
Anmelder: Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3179308
- Aktenzeichen
- EP15829358
- Anmeldetag
- 31. Juli 2015
- Veröffentlichung
- 21. April 2021
- Erteilung
- 21. April 2021
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/11C07C261/02G03F7/004G03F7/26H01L21/027
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Mitsubishi Gas Chemical Company
Japanisches Chemieunternehmen der Mitsubishi-Gruppe mit Fokus auf technische Kunststoffe, Methanol und Spezialchemikalien. Der Konzern beliefert unter anderem die Elektronik- und Verpackungsindustrie.
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