Reaktionsofen zur Herstellung von Polykristallinem Silicium, Vorrichtung zur Herstellung von Polykristallinem Silicium, Verfahren zur Herstellung von Polykristallinem Silicium und Polykristalliner Siliciumstab oder Polykristalliner Siliciumwafer
EP3190086
Art B1
12. Januar 2022
Anmelder: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3190086
- Aktenzeichen
- EP15838723
- Anmeldetag
- 29. Juli 2015
- Veröffentlichung
- 12. Januar 2022
- Erteilung
- 12. Januar 2022
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C01B33/035
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Shin-Etsu Chemical
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.
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