Reinigungslösung für ein Halbleiterelement zur Unterdrückung von Schäden an Wolframhaltigen Materialien und Verfahren zum Reinigen eines Halbleiterelements damit

EP3193358 Art B1 31. März 2021

Anmelder: Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP3193358
Aktenzeichen: EP15858444
Anmeldetag: 2. Oktober 2015
Veröffentlichung: 31. März 2021
Erteilung: 31. März 2021
Rechtsraum: EP
IPC: H01L21/311// G03F7/42

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Mitsubishi Gas Chemical Company

Japanisches Chemieunternehmen der Mitsubishi-Gruppe mit Fokus auf technische Kunststoffe, Methanol und Spezialchemikalien. Der Konzern beliefert unter anderem die Elektronik- und Verpackungsindustrie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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