Silberlegierung-Sputtertarget und Silberlegierungsschichtherstellungsverfahren
EP3196334
Art B1
22. Mai 2019
Anmelder: Mitsubishi Materials Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3196334
- Aktenzeichen
- EP16755337
- Anmeldetag
- 18. Februar 2016
- Veröffentlichung
- 22. Mai 2019
- Erteilung
- 22. Mai 2019
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C23C14/34C22C5/06C22C5/08C23C14/14H01J37/34C23C14/35
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Mitsubishi Materials Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Mitsubishi Materials
Japanisches Unternehmen der Mitsubishi-Gruppe mit Sitz in Tokio, tätig in der Verarbeitung von Metallen und Werkstoffen, unter anderem Kupfer, Zement, Hartmetallwerkzeuge und elektronische Materialien.
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Vertreten von
-
Hoffmann Eitle
Hoffmann Eitle · München