Plasmagasbestrahlungsvorrichtung
EP3197245
Art B1
16. Dezember 2020
Anmelder: FUJI Corporation, Fuji Machine Mfg. Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3197245
- Aktenzeichen
- EP14902255
- Anmeldetag
- 16. September 2014
- Veröffentlichung
- 16. Dezember 2020
- Erteilung
- 16. Dezember 2020
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H05H1/34H01J37/32H05H1/24H05H1/46
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- FUJI Corporation
Fuji Machine Mfg. Co., Ltd. - Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Fuji Machine Mfg.
Japanisches Unternehmen mit Sitz in Chiryu, das Bestückungsautomaten und Fertigungssysteme für die Elektronikindustrie herstellt.
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