Verfahren zum Bilden einer Anodisierten Schicht und einer Aluminiumschicht über Substrat

EP3198058 Art A1 2. August 2017

Anmelder: Hewlett-Packard Development Company, L.P. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP3198058
Aktenzeichen: EP15890989
Anmeldetag: 30. April 2015
Veröffentlichung: 2. August 2017
Rechtsraum: EP
IPC: C25D11/04C23C16/02C23C24/10C23C28/02

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Hewlett-Packard Development Company, L.P.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Hewlett-Packard

US-amerikanischer Technologiekonzern mit Sitz in Palo Alto, Kalifornien. Aktiv in Computerhardware, Druckern, Speicherlösungen sowie Unternehmens-IT und Cloud-Infrastruktur.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik

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